国家知识产权局信息显示,贰陆特拉华股份有限公司申请一项名为“光学装置及形成光学装置的方法”的专利,公开号CN122370833A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,本申请涉及一种光学装置及形成光学装置的方法。公开了光学放大器、激光装置以及形成这样的装置的方法。一种这样的方法包括:在基板上形成下包层并且在该下包层上形成掺杂陶瓷层。掺杂陶瓷层的形成使用沉积陶瓷材料并且将陶瓷材料与稀土掺杂剂共掺杂的等离子体辅助工艺;该方法还包括:在掺杂陶瓷层上形成上包层,并且蚀刻上包层和掺杂陶瓷层以形成掺杂陶瓷波导。
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来源:市场资讯