国家知识产权局信息显示，河北省因普朗半导体有限公司取得一项名为“一种离子注入机直线加速器馈通陶瓷电极装置”的专利，授权公告号CN224460083U，申请日期为2025年7月。

专利摘要显示，本实用新型公开了高压真空馈通装置技术领域的一种离子注入机直线加速器馈通陶瓷电极装置，包括：中心高压电极：形状为柱状，由高导电金属无氧铜制成；绝缘陶瓷柱：形状为波纹管状，包围着中心高压电极的主体绝缘部分，所述中心高压电极与绝缘陶瓷柱内孔之间为气密封接；金属螺纹外壳；包围在绝缘陶瓷柱外围，提供机械支撑、安装接口和法兰，且法兰处设有配备弹性体的密封槽，所述绝缘陶瓷柱与金属螺纹外壳之间为气密封接；金属螺纹限位钉：设于金属螺纹外壳的端部侧壁。本实用新型在高真空加速器管道内，与外部电源之间，安全、可靠地引入高电压到内部电极上，同时保持真空密封和优异电绝缘的特殊装置，有效实现高压绝缘与真空密封一体化。

天眼查资料显示，河北省因普朗半导体有限公司，成立于2025年，位于廊坊市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本300万人民币。通过天眼查大数据分析，河北省因普朗半导体有限公司专利信息2条。

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