国家知识产权局信息显示,沈阳星膜科技有限公司取得一项名为“一种高孔隙率碳化硅陶瓷膜”的专利,授权公告号CN224345691U,申请日期为2025年5月。
专利摘要显示,本实用新型公开了一种高孔隙率碳化硅陶瓷膜,包括:柱式碳化硅陶瓷膜主体;浮动管板固定设置在所述柱式碳化硅陶瓷膜主体的外壁一端;固定管板固定设置在所述柱式碳化硅陶瓷膜主体的另一端;浮动固定组件设置在所述浮动管板的外壁;连接加强组件设置在所述浮动管板和固定管板之间。该高孔隙率碳化硅陶瓷膜,通过设置有浮动固定组件能够对浮动管板进行支撑调节,以使柱式碳化硅陶瓷膜主体的一端平稳固定在管壳内部,稳定性强,通过设置有连接加强组件能够对浮动管板和固定管板之间进行连接固定,在连接杆的支撑下以便于对柱式碳化硅陶瓷膜主体进行抽芯,维修方便。
天眼查资料显示,沈阳星膜科技有限公司,成立于2022年,位于沈阳市,是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,沈阳星膜科技有限公司参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息6条,专利信息9条,此外企业还拥有行政许可5个。
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来源:市场资讯