阿凡达光电申请导电氧化锆陶瓷靶材及其原料制备方法专利，可磁控溅射制备耐磨涂层
创始人
2026-06-15 12:09:02
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国家知识产权局信息显示，杭州阿凡达光电科技有限公司申请一项名为“一种导电氧化锆陶瓷靶材及其原料的制备方法”的专利，公开号CN122187485A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明提供了一种导电氧化锆陶瓷靶材及其原料的制备方法，按重量份计，其制备原料包括：氧化锆80~88份、氧化钇4~6份、氧化钪0.5~2.0份、氮化钛‑碳纳米管复合导电相2~4份、镧锶铌复合氧化物1~3份、氧化锌0.5~1.5份、二氧化钛0.3~1.0份、聚乙烯醇1~3份、聚乙二醇0.5~1.5份、无水乙醇20~35份。本发明通过多组分协同实现高导电、高致密度、低烧结温度，可磁控溅射制备耐磨涂层，适用于微型阀门等高耐磨零部件表面强化。
天眼查资料显示，杭州阿凡达光电科技有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州阿凡达光电科技有限公司财产线索方面有商标信息1条，专利信息17条，此外企业还拥有行政许可2个。
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来源：市场资讯
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