天仁道和申请C/C-SiC陶瓷基复合件制备专利，解决成品密度不一致问题
创始人
2026-06-12 20:33:52
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国家知识产权局信息显示，北京天仁道和新材料有限公司申请一项名为“一种C/C-SiC陶瓷基复合件、制备系统及制备方法”的专利，公开号CN122187519A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及复合成型技术领域，具体涉及一种C/C‑SiC陶瓷基复合件、制备系统及制备方法。一种C/C‑SiC陶瓷基复合件，包括：预制体，所述预制体适于放置于炉体内；沉积层，以强制流动化学气相方式沉积于所述预制体上。本发明提供了一种C/C‑SiC陶瓷基复合件、制备系统及制备方法，以解决C/C‑SiC陶瓷基复合材材料采用传统等温化学气相沉积方式进行制备，存在成品密度不一致的问题。
天眼查资料显示，北京天仁道和新材料有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事铁路、船舶、航空航天和其他运输设备制造业为主的企业。企业注册资本7312.5万人民币。通过天眼查大数据分析，北京天仁道和新材料有限公司参与招投标项目29次，财产线索方面有商标信息29条，专利信息113条，此外企业还拥有行政许可157个。
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来源：市场资讯
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