伊三壹玖申请高效立体釉下彩陶瓷制作工艺专利，消除立体纹理根部开裂的风险
创始人
2026-05-26 21:33:35
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国家知识产权局信息显示，伊三壹玖（上海）文化创意有限公司申请一项名为“一种高效立体釉下彩陶瓷制作工艺”的专利，公开号CN122079661A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明涉及陶瓷制造技术领域，公开了一种高效立体釉下彩陶瓷制作工艺，包括：在坯体表面施涂含有氧化钙的基础釉层，基础釉层表面涂布含有双峰分布氧化镁的彩绘料以构建立体纹理层，利用烧成升温阶段界面产生的初期共熔液相作为离子扩散通道，驱动钙离子与镁离子发生跨界面双向渗透，在接触界面形成透辉石晶相过饱和区，通过原位析出针状晶体构建结构支撑骨架，本发明利用晶体骨架的机械约束作用限制釉层在熔融状态下的位移，固定立体形态，配合界面原位析晶产生的多孔骨架网络缓解热膨胀失配应力，消除立体纹理根部开裂的风险。
天眼查资料显示，伊三壹玖（上海）文化创意有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事文化艺术业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，伊三壹玖（上海）文化创意有限公司。
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来源：市场资讯
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